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1.外觀尺寸：4200mm (L)χ1700mm (W)χ1950mm (H)
2.進料區(qū)：可放置625mmχ505 mm料盤二十盤，一盤Max 35個治具，一次入料Max可達700個治具，自動送料盤結構配置一個KY- 400高真空分子泵或10 FCryo pump及採用Rotary pump + Booster之低真空pump組合，抽氣速率可達10000 L/hr
3.鍍膜製程區(qū)：本區(qū)域設計共8個濺射陰極，採用上方四個、下方四個，並以左右對稱之方式設計，配置一個10FCryo pump，前後     各配置一個(共兩個)方形閘閥，使入料及出料可保持真空。
4.出料區(qū)：二十盤料盤，Max700個治具，一次出料自動收料機構。
5.電控裝置區(qū)：採用日本三菱PLC，高信賴度，易於保養(yǎng)維護。
二：設計概念：

採用最簡化即是最佳化(Simple Is The Best)設計理念。針對以下問題點做全面考量：
• 腔體尺寸
• 機構設計
• 抽氣系統(tǒng)設計
• 靶材更換便利性
• 設備維護保養(yǎng)
• 鍍膜品質(zhì)需求
• 軟體功能設計
• 生產(chǎn)效率
三：系統(tǒng)特色
• 腔體採用模組化設計，易於搬運及組合，機構易調(diào)校
• 自動送料、收料系統(tǒng)
• 多靶濺射，生產(chǎn)速度快
• 軟硬體高度整合以減少人為操作錯誤的可能性
• 圖形化操作介面，易學易操作，動態(tài)顯示設備運轉現(xiàn)狀
• 控制電路板佔用空間小，設計上易維修與查線
• 附換靶臺車，省力方便。
四：系統(tǒng)組態(tài)及系統(tǒng)規(guī)格
4.1系統(tǒng)組態(tài)：

4.2系統(tǒng)規(guī)格及技術指標：
 1. 控制系統(tǒng)；
 　採用三菱PLC自動控制+人機介面
 2.腔體Chamber
　材質(zhì)：SUS304不銹鋼材質(zhì)外加Water Jacket出料區(qū)、進料區(qū)大門材質(zhì)為鋁合金
 3.電漿源與靶材
　電漿源：磁控濺射源x 8、水冷式〈上方四靶，下方四靶〉靶材尺寸：5”x 22”x 1/2”Target
固定方式：Clamp type 
4.DC電源供應器
　MAX 8 KW水冷式